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化學拋光　化學拋光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優點是不需復雜設備，可以拋光形狀復雜的工件，可以同時拋光很多工件，效率高�；瘜W拋光的核心問題是拋光液的配制。化學拋光得到的表面粗糙度一般為數10μm。